近日，顯示技術領域迎來一項重磅突破。韓國國民大學都英樂教授研究團隊成功開發出一種名為“UVIMA”（紫外線照射水分吸附）的全新技術，該技術被證實能從根本上解決制約超微型MicroLED（尺寸小于5微米）發展的核心難題——效率急劇下降問題。這一突破為MicroLED在下一代顯示設備中的大規模應用鋪平了道路。

MicroLED（微米發光二極管）被譽為繼OLED之后的下一代顯示技術，擁有高亮度、長壽命和低功耗等先天優勢。然而，當芯片尺寸縮小至5微米以下時，在制造過程中產生的表面缺陷會捕獲電能，導致發光效率不升反降，這一直是阻礙其商業化的最大技術障礙。

傳統技術無法有效解決這一難題。都英樂教授團隊獨辟蹊徑，設計了一套整合了低損傷蝕刻和核心UVIMA技術的創新工藝。UVIMA技術的原理是利用紫外線光化學活化空氣中的水分，使其穩定修復LED表面的關鍵缺陷。

更令人驚喜的是，該工藝還激活了氮化鎵基LED中一種名為“延遲發光”的物理機制。這一機制能將原本被缺陷損耗掉的電子“搶救”回來，重新參與發光，變廢為寶，從而大幅提升效率。

實驗數據極具說服力：應用該技術后，尺寸小于5微米的銦鎵氮/氮化鎵Fin-LED實現了70.9%的內量子效率和約18,000 cd/m2的亮度。這些關鍵指標證明，超微型LED的性能已經達到了可工業化應用的水平。

此外，該技術下的Fin-LED結構易于通過介電泳技術進行精準排列，展示了制造從智能手表、車載屏到超高分辨率顯示屏的巨大潛力。團隊已成功制作出64×64像素的微型顯示屏原型，驗證了其可行性。